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摩爾定律能“活”到2025年以后 中國(guó)半導(dǎo)體趕超有望

在摩爾定律依然延續(xù)的今天,中國(guó)IC制造工藝與世界先進(jìn)工藝如何縮小,這是不得不思考的問(wèn)題。IMEC中國(guó)區(qū)總裁丁輝文近日指出,半導(dǎo)體工藝尺寸的縮小和摩爾定律仍能持續(xù)發(fā)展到2025年以后,中國(guó)半導(dǎo)體若能善用國(guó)際和國(guó)內(nèi)資源,有機(jī)會(huì)在各領(lǐng)域趕超世界先進(jìn)水平。


多元化應(yīng)用需要多元化半導(dǎo)體技術(shù)

丁輝文認(rèn)為,講摩爾定律,其實(shí)首先是應(yīng)用推動(dòng)了芯片的成長(zhǎng),而在應(yīng)用當(dāng)中,主要是IoT、移動(dòng)通訊、云端服務(wù)這三大應(yīng)用市場(chǎng)。這三大應(yīng)用對(duì)半導(dǎo)體器件有不同的要求:一是IoT應(yīng)用,功耗在1mW到100mW;二是移動(dòng)通訊部分,功耗是100mW到10W量級(jí)上的需求;三是云端服務(wù),追求的是速度、速率、性能,在功耗上的需求可能在100W量級(jí),這三大應(yīng)用推動(dòng)了整個(gè)半導(dǎo)體的研發(fā)以及半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

丁輝文表示,針對(duì)各界在廣泛討論的IoT應(yīng)用,功耗在毫瓦量級(jí),根據(jù)功耗、性能,晶圓片上的節(jié)點(diǎn)大概28nm就足夠了,不一定微縮到5nm、3nm。但從移動(dòng)通訊市場(chǎng)來(lái)看,目前華為、中興等領(lǐng)先企業(yè)已經(jīng)把手機(jī)芯片做到16nm,并且量產(chǎn),現(xiàn)在正在做7nm的量產(chǎn)。這說(shuō)明,如果做手機(jī)芯片一定還要沿著摩爾定律繼續(xù)往前走。


摩爾定律將持續(xù)發(fā)展到2025年之后

丁輝文指出,每當(dāng)摩爾定律走到一個(gè)難走狀態(tài),就會(huì)出現(xiàn)一些新技術(shù)突破。比如,目前出現(xiàn)三維FinFET,到往前走到2020年到7nm,還會(huì)出現(xiàn)其它的新方法,如SiGa channel、LNW,這使得半導(dǎo)體器件繼續(xù)沿著摩爾定律往前走向前延伸。通過(guò)新的產(chǎn)品和技術(shù)、新的架構(gòu)、新材料,再回到摩爾定律之上。

另外,IMEC也在研究神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)計(jì)算、量子計(jì)算(quantum computing),替代傳統(tǒng)晶體管,讓整個(gè)摩爾定律延續(xù)下去。在他看來(lái),摩爾定律將會(huì)持續(xù)到2025年以后。

丁輝文也介紹,IMEC做的是5nm、7nm研究,7nm已經(jīng)幾乎完成,再往前走IMEC還做2nm、3nm研究 “IMEC整個(gè)研發(fā)平臺(tái)是從小于2nm做到5nm、7nm?!辈⑶遗c合作伙伴一起進(jìn)行邏輯工藝研發(fā)平臺(tái),涵蓋65nm、45nm、28nm、20nm、14nm、10nm。

IMEC通過(guò)打造了一個(gè)完整產(chǎn)業(yè)生態(tài),包括與Intel、三星、TSMC、海思、高通、ARM等公司,以及吸引了全部設(shè)備和材料業(yè)者,以及全球大概600家系統(tǒng)級(jí)廠商一起推動(dòng)研究半導(dǎo)體器件發(fā)展。

在制造工藝上,中國(guó)如何趕超世界先進(jìn)技術(shù)?

中國(guó)如何與世界先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)接軌?對(duì)此,丁輝文認(rèn)為,可善用國(guó)際資源,當(dāng)前pure play foundry模式,這種模式廣泛被國(guó)際接受;然技術(shù)資源則可善用國(guó)際研究機(jī)構(gòu),如對(duì)標(biāo)IMEC資源,在IP、數(shù)據(jù)、團(tuán)隊(duì)參與研發(fā)基礎(chǔ)上做加法,避免重復(fù)投資,重復(fù)研發(fā),掌握先機(jī)。

丁輝文表示,當(dāng)前政府集中資源以基金扶植集成電路行業(yè)發(fā)展,“半導(dǎo)體工藝尺寸的縮小和摩爾定律能持續(xù)發(fā)展到2025年以后,中國(guó)半導(dǎo)體有成功的歷史機(jī)遇,巧用國(guó)際和國(guó)內(nèi)資源,中國(guó)有機(jī)會(huì)在各領(lǐng)域趕超世界先進(jìn)水平?!?br />
2017-06-27  來(lái)源:OFweek電子工程網(wǎng)
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