揭秘半導(dǎo)體制備工藝
中國(guó)政府"十三五"規(guī)劃草案,經(jīng)濟(jì)發(fā)展目標(biāo)包括半導(dǎo)體等先進(jìn)產(chǎn)業(yè)及在晶片材料、機(jī)器人、航空設(shè)備和衛(wèi)星的次世代領(lǐng)域成為世界領(lǐng)先,研發(fā)經(jīng)費(fèi)將達(dá)GDP2.5%。
那么半導(dǎo)體是怎么制造出來(lái)的?這里我們并不是探究從沙子到芯片的過(guò)程,而是聚焦于半導(dǎo)體生產(chǎn)制造的環(huán)境和生產(chǎn)設(shè)備。
半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)通常要經(jīng)歷以下過(guò)程:
半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)工序
這些高端精細(xì)的制備過(guò)程對(duì)芯片的生產(chǎn)環(huán)境和設(shè)備要求是極高的,這些機(jī)器設(shè)備會(huì)令硅芯片(如英特爾硅芯片)遭受超強(qiáng)真空處理、「化學(xué)浴」浸泡、高能等離子體加工、紫外光照射等一系列步驟,同時(shí)還要使硅芯片經(jīng)過(guò)數(shù)百個(gè)制造階段,從而將它們變成CPU、存儲(chǔ)器片、圖形處理器等。我們以美國(guó)應(yīng)用材料公司的梅坦技術(shù)中心半導(dǎo)體生產(chǎn)環(huán)境和制備設(shè)備為例。
1.無(wú)塵室
在進(jìn)入研究中心以前,必須穿上防護(hù)服,戴上面具、護(hù)目鏡、兩幅手套以及將鞋完全套住的塑膠袋。這里不是生產(chǎn)車(chē)間,相反,這個(gè)無(wú)塵室只是模擬了晶圓廠(chǎng)的環(huán)境,應(yīng)用材料公司的設(shè)備將在這種環(huán)境下使用,以便公司及其客戶(hù)可以測(cè)試新技術(shù)和新工藝,然后真正將它們推向生產(chǎn)線(xiàn)。
2.玻璃光掩膜
芯片制造的核心技術(shù)是平版印刷(光刻),這種技術(shù)就像是絲網(wǎng)印刷,只不過(guò)不是通過(guò)絲制模板將墨滾壓至棉T恤上,而是通過(guò)玻璃光掩膜,使紫外光照射表面涂有光刻膠(一種有機(jī)化合物)的硅襯底上。在紫外光照射穿透的地方,光刻膠的化學(xué)特性會(huì)被削弱,使硅芯片表面留下圖案。接著,硅芯片會(huì)被送入一個(gè)「化學(xué)浴室」,在暴露在外的硅襯底上蝕刻溝槽,同時(shí)光刻膠覆蓋的區(qū)域不會(huì)受到任何影響。在去除了光刻膠以后,其他設(shè)備會(huì)用各種材料填補(bǔ)溝槽,比如用于制造處理器零部件的銅或鋁。此圖顯示的就是光掩膜,上面印有將打印到硅芯片上的圖案。
3.技術(shù)一流的機(jī)器設(shè)備
隨著硅芯片被送進(jìn)制造車(chē)間,它將經(jīng)過(guò)多達(dá)250個(gè)不同步驟的處理。這些步驟包括給各種材料覆上一層薄膜,接著蝕刻以制成晶體管和銅線(xiàn)。右圖是Endura機(jī)器。Endura平臺(tái)是一個(gè)模塊化、可配置系統(tǒng),用于將金屬和金屬合金安裝到硅芯片。左圖則是TetraIII先進(jìn)掩膜刻蝕系統(tǒng)。世界各地所有的掩膜制造商都利用這套系統(tǒng)開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)直徑為45納米的掩膜。
4.平板印刷室
根據(jù)現(xiàn)階段的技術(shù)發(fā)展水平制造的芯片直徑是30納米,也就是說(shuō),芯片零部件的平均尺寸大概是300億分之一米。芯片制造商目前正在開(kāi)發(fā)直徑22納米的芯片設(shè)計(jì),這會(huì)使得芯片零部件的尺寸更小。有些零部件的厚度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)寬度,有時(shí),這一比例達(dá)到60比1,進(jìn)一步增加了芯片制造的難度。因?yàn)檫@意味著蝕刻系統(tǒng)必須能以納米刻度,以超高精度在芯片上刻下極深、極窄的溝槽。平板印刷室里面點(diǎn)著黃色的燈,避免光掩膜與紫外線(xiàn)相互干擾。
5.極端真空狀態(tài)
技術(shù)人員在Endura系統(tǒng)的觸摸屏界面上工作。圖為大型銀泵,用于在機(jī)器內(nèi)產(chǎn)生極端真空狀態(tài)——低至10-12個(gè)大氣。相比之下,距地面124英里(約合200公里)的高空(航天飛機(jī)飛行軌道所在位置)的氣壓為10-10個(gè)大氣。
6.前置式晶圓傳送盒
過(guò)去幾十年,用于制造芯片的硅芯片在尺寸上穩(wěn)步增加,使得制造商可以在每張盤(pán)上集成更多的芯片。從2000年開(kāi)始,硅芯片直徑的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)一直為300毫米。為簡(jiǎn)化傳送過(guò)程,將污染的風(fēng)險(xiǎn)降至最低程度,晶圓廠(chǎng)會(huì)充分利用前置式晶圓傳送盒(簡(jiǎn)稱(chēng)FOUP)。每個(gè)前置式晶圓傳送盒可以在無(wú)菌的清潔環(huán)境下放置25個(gè)硅芯片。接著,機(jī)器吸入里面的硅芯片,一個(gè)個(gè)地自動(dòng)快速加工。
7. 高度自動(dòng)化
放滿(mǎn)硅芯片的前置式晶圓傳送盒很重,大約為9公斤,自動(dòng)化就成了無(wú)塵室設(shè)計(jì)的重要部分。無(wú)塵室有一條自動(dòng)化懸掛單軌,可將前置式晶圓傳送盒從一處輸送至另一處。在照片中顯示的密封房間內(nèi),最多可以放置700個(gè)前置式晶圓傳送盒(可裝1.75萬(wàn)個(gè)硅芯片)。機(jī)械臂將它們從兩側(cè)移進(jìn)移出,放置在貫穿于整個(gè)無(wú)塵室的懸掛單軌(這張照片上沒(méi)顯示)。
另外2800個(gè)前置式晶圓傳送盒可以存放于主無(wú)塵室下面的一層?,F(xiàn)代無(wú)塵室中的每一臺(tái)機(jī)器都圍繞300毫米的硅芯片設(shè)計(jì)和制造。新一代芯片將采用450毫米的硅芯片制造,從而實(shí)現(xiàn)更大的規(guī)模效益。但是,要與450毫米的硅芯片兼容使用,整個(gè)行業(yè)必須更換每一個(gè)設(shè)備零部件。
8.零部件精確制造
雖然電腦芯片僅相當(dāng)于手指甲大小,但卻由數(shù)億個(gè)晶體管構(gòu)成,而用于將這些晶體管連接于機(jī)器、再將機(jī)器與主板和剩余世界連接的配線(xiàn)更是像迷宮一般。芯片全部是用直徑大約1英尺(約合30厘米)的圓形硅芯片制造,每個(gè)可以包含200個(gè)獨(dú)立、但外形相同的處理器。由于偶爾會(huì)發(fā)生污染事件,雖然無(wú)塵室極為干凈,制造商仍必須測(cè)試那些處理器的每一個(gè)零部件,以確保5億個(gè)零部件(每個(gè)直徑僅30至45納米左右)在制造過(guò)程中不會(huì)出現(xiàn)任何瑕疵。所以,這類(lèi)機(jī)器的成本高達(dá)數(shù)千億美元。一個(gè)可容納數(shù)百臺(tái)此類(lèi)機(jī)器的成熟晶圓廠(chǎng),建造成本達(dá)數(shù)十億美元。
2017-12-11 來(lái)源:半導(dǎo)體行業(yè)觀(guān)察
文章關(guān)鍵詞: 韋爾股份 香港華清電子(集團(tuán))有限公司 半導(dǎo)體制備工藝
那么半導(dǎo)體是怎么制造出來(lái)的?這里我們并不是探究從沙子到芯片的過(guò)程,而是聚焦于半導(dǎo)體生產(chǎn)制造的環(huán)境和生產(chǎn)設(shè)備。
半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)通常要經(jīng)歷以下過(guò)程:
半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)工序
這些高端精細(xì)的制備過(guò)程對(duì)芯片的生產(chǎn)環(huán)境和設(shè)備要求是極高的,這些機(jī)器設(shè)備會(huì)令硅芯片(如英特爾硅芯片)遭受超強(qiáng)真空處理、「化學(xué)浴」浸泡、高能等離子體加工、紫外光照射等一系列步驟,同時(shí)還要使硅芯片經(jīng)過(guò)數(shù)百個(gè)制造階段,從而將它們變成CPU、存儲(chǔ)器片、圖形處理器等。我們以美國(guó)應(yīng)用材料公司的梅坦技術(shù)中心半導(dǎo)體生產(chǎn)環(huán)境和制備設(shè)備為例。
1.無(wú)塵室
在進(jìn)入研究中心以前,必須穿上防護(hù)服,戴上面具、護(hù)目鏡、兩幅手套以及將鞋完全套住的塑膠袋。這里不是生產(chǎn)車(chē)間,相反,這個(gè)無(wú)塵室只是模擬了晶圓廠(chǎng)的環(huán)境,應(yīng)用材料公司的設(shè)備將在這種環(huán)境下使用,以便公司及其客戶(hù)可以測(cè)試新技術(shù)和新工藝,然后真正將它們推向生產(chǎn)線(xiàn)。
2.玻璃光掩膜
芯片制造的核心技術(shù)是平版印刷(光刻),這種技術(shù)就像是絲網(wǎng)印刷,只不過(guò)不是通過(guò)絲制模板將墨滾壓至棉T恤上,而是通過(guò)玻璃光掩膜,使紫外光照射表面涂有光刻膠(一種有機(jī)化合物)的硅襯底上。在紫外光照射穿透的地方,光刻膠的化學(xué)特性會(huì)被削弱,使硅芯片表面留下圖案。接著,硅芯片會(huì)被送入一個(gè)「化學(xué)浴室」,在暴露在外的硅襯底上蝕刻溝槽,同時(shí)光刻膠覆蓋的區(qū)域不會(huì)受到任何影響。在去除了光刻膠以后,其他設(shè)備會(huì)用各種材料填補(bǔ)溝槽,比如用于制造處理器零部件的銅或鋁。此圖顯示的就是光掩膜,上面印有將打印到硅芯片上的圖案。
3.技術(shù)一流的機(jī)器設(shè)備
隨著硅芯片被送進(jìn)制造車(chē)間,它將經(jīng)過(guò)多達(dá)250個(gè)不同步驟的處理。這些步驟包括給各種材料覆上一層薄膜,接著蝕刻以制成晶體管和銅線(xiàn)。右圖是Endura機(jī)器。Endura平臺(tái)是一個(gè)模塊化、可配置系統(tǒng),用于將金屬和金屬合金安裝到硅芯片。左圖則是TetraIII先進(jìn)掩膜刻蝕系統(tǒng)。世界各地所有的掩膜制造商都利用這套系統(tǒng)開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)直徑為45納米的掩膜。
4.平板印刷室
根據(jù)現(xiàn)階段的技術(shù)發(fā)展水平制造的芯片直徑是30納米,也就是說(shuō),芯片零部件的平均尺寸大概是300億分之一米。芯片制造商目前正在開(kāi)發(fā)直徑22納米的芯片設(shè)計(jì),這會(huì)使得芯片零部件的尺寸更小。有些零部件的厚度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)寬度,有時(shí),這一比例達(dá)到60比1,進(jìn)一步增加了芯片制造的難度。因?yàn)檫@意味著蝕刻系統(tǒng)必須能以納米刻度,以超高精度在芯片上刻下極深、極窄的溝槽。平板印刷室里面點(diǎn)著黃色的燈,避免光掩膜與紫外線(xiàn)相互干擾。
5.極端真空狀態(tài)
技術(shù)人員在Endura系統(tǒng)的觸摸屏界面上工作。圖為大型銀泵,用于在機(jī)器內(nèi)產(chǎn)生極端真空狀態(tài)——低至10-12個(gè)大氣。相比之下,距地面124英里(約合200公里)的高空(航天飛機(jī)飛行軌道所在位置)的氣壓為10-10個(gè)大氣。
6.前置式晶圓傳送盒
過(guò)去幾十年,用于制造芯片的硅芯片在尺寸上穩(wěn)步增加,使得制造商可以在每張盤(pán)上集成更多的芯片。從2000年開(kāi)始,硅芯片直徑的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)一直為300毫米。為簡(jiǎn)化傳送過(guò)程,將污染的風(fēng)險(xiǎn)降至最低程度,晶圓廠(chǎng)會(huì)充分利用前置式晶圓傳送盒(簡(jiǎn)稱(chēng)FOUP)。每個(gè)前置式晶圓傳送盒可以在無(wú)菌的清潔環(huán)境下放置25個(gè)硅芯片。接著,機(jī)器吸入里面的硅芯片,一個(gè)個(gè)地自動(dòng)快速加工。
7. 高度自動(dòng)化
放滿(mǎn)硅芯片的前置式晶圓傳送盒很重,大約為9公斤,自動(dòng)化就成了無(wú)塵室設(shè)計(jì)的重要部分。無(wú)塵室有一條自動(dòng)化懸掛單軌,可將前置式晶圓傳送盒從一處輸送至另一處。在照片中顯示的密封房間內(nèi),最多可以放置700個(gè)前置式晶圓傳送盒(可裝1.75萬(wàn)個(gè)硅芯片)。機(jī)械臂將它們從兩側(cè)移進(jìn)移出,放置在貫穿于整個(gè)無(wú)塵室的懸掛單軌(這張照片上沒(méi)顯示)。
另外2800個(gè)前置式晶圓傳送盒可以存放于主無(wú)塵室下面的一層?,F(xiàn)代無(wú)塵室中的每一臺(tái)機(jī)器都圍繞300毫米的硅芯片設(shè)計(jì)和制造。新一代芯片將采用450毫米的硅芯片制造,從而實(shí)現(xiàn)更大的規(guī)模效益。但是,要與450毫米的硅芯片兼容使用,整個(gè)行業(yè)必須更換每一個(gè)設(shè)備零部件。
8.零部件精確制造
雖然電腦芯片僅相當(dāng)于手指甲大小,但卻由數(shù)億個(gè)晶體管構(gòu)成,而用于將這些晶體管連接于機(jī)器、再將機(jī)器與主板和剩余世界連接的配線(xiàn)更是像迷宮一般。芯片全部是用直徑大約1英尺(約合30厘米)的圓形硅芯片制造,每個(gè)可以包含200個(gè)獨(dú)立、但外形相同的處理器。由于偶爾會(huì)發(fā)生污染事件,雖然無(wú)塵室極為干凈,制造商仍必須測(cè)試那些處理器的每一個(gè)零部件,以確保5億個(gè)零部件(每個(gè)直徑僅30至45納米左右)在制造過(guò)程中不會(huì)出現(xiàn)任何瑕疵。所以,這類(lèi)機(jī)器的成本高達(dá)數(shù)千億美元。一個(gè)可容納數(shù)百臺(tái)此類(lèi)機(jī)器的成熟晶圓廠(chǎng),建造成本達(dá)數(shù)十億美元。
2017-12-11 來(lái)源:半導(dǎo)體行業(yè)觀(guān)察
文章關(guān)鍵詞: 韋爾股份 香港華清電子(集團(tuán))有限公司 半導(dǎo)體制備工藝