半導體設備可分為晶圓處理設備、封裝設備、測試設備和其他設備，其他設備包括硅片制造設備、潔靜設備、光罩等。這些設備分別對應集成電路制造、封裝、測試和硅片制造等工序，分別用在集成電路生產(chǎn)工藝的不同工序里。

在整個半導體設備市場中，晶圓制造設備大約占整體的80%，封裝及組裝設備大約占 7%，測試設備大約占 9%，其他設備大約占 4%。而在晶圓制造設備中，光刻機，刻蝕機，薄膜沉積設備為核心設備，分別占晶圓制造環(huán)節(jié)設備成本的30%，25%，25%。

半導體設備處于該產(chǎn)業(yè)鏈的上游，雖然市場總量與下游的IC設計、制造、封測比相對較小，但其技術高度密集、尖端這一特點，決定半導體設備在整個行業(yè)中起著舉足輕重的作用，為下游的制造、封測源源不斷地提供著“糧食”。

SEMI的數(shù)據(jù)顯示，2017年全球半導體設備市場規(guī)模達566.2億美元，較2016 年大幅增長 37.3%，創(chuàng)歷史新高，增速為近7年來的最高水平。

在由SEMI統(tǒng)計的2017年全球前12的半導體設備廠商榜單中，絕大部分營收增長都非常強勁。其中，排名前10的廠商，年營收增長率全是正數(shù)，沒有出現(xiàn)負增長的情況，而且，除了排名第6的迪恩士（年增長1%）和排第8的日立高新（年增長5%）外，其它8家的增幅都處于高位，其中，排名第7的細美事（SEMES）的增幅達到了驚人的142%。

下面，我們就盤點一下SEMI統(tǒng)計的這些半導體設備廠商情況。

應用材料

作為一家老牌的美國半導體設備商，應用材料（AMAT）是全球最大的半導體設備公司，產(chǎn)品橫跨CVD、 PVD、刻蝕、CMP、RTP等除光刻機外的幾乎所有半導體設備。應用材料2017財年營收為145.3億美元，其中，半導體設備收入95.2億美元。

在全球晶圓處理設備供應商中排名第一，應用材料市占率19%左右，其中，在PVD領域，應用材料占據(jù)了近85%的市場份額，CVD占30%。

半導體設備行業(yè)技術壁壘非常高，隨著制程越來越先進，對半導體設備的性能和穩(wěn)定性提出了越來越高的要求，需要投入大量的研發(fā)資金。應用材料公司一直保持著在研發(fā)上的高投入，每年的研發(fā)支出超過15億美元，其30%的員工為專業(yè)研發(fā)人員，擁有近12000 項專利，平均每天申請4個以上的新專利。正是這種持續(xù)的高研發(fā)投入，促成了應用材料的內(nèi)部創(chuàng)新，構成了較高的技術壁壘，使其自1992年以來一直保持著世界最大半導體設備公司的地位。

Lam Research

Lam Research主要生產(chǎn)單晶圓薄膜沉積系統(tǒng)、等離子刻蝕系統(tǒng)和清潔系統(tǒng)設備。該公司通過并購方式不斷提升競爭優(yōu)勢，2012年6月，Lam公司完成與Novellus Systems（諾發(fā)系統(tǒng)）合并；2015年10月，該公司宣布斥資106億美元，以現(xiàn)金加股票的方式收購同業(yè)競爭公司科磊半導體（KLA-Tencor），但最終未獲成功。

在全球晶圓處理設備供應商中，Lam Research排名第二，市占率13%左右，其中，刻蝕設備方面，Lam Research市占率最高，達到53%。

Lam能排在全球第二的位置，與其高研發(fā)投入直接相關，據(jù)悉，該公司每年的研發(fā)支出超過10億美元。

Lam公司為全球著名的半導體制造商提供服務，鎂光科技、三星電子、SK 海力士等都是其主要客戶，2016財年的訂單均占該公司銷售收入的10%以上。2014和2015財年，Lam在韓國半導體設備銷售額最高，占整體銷售比例為24%和27%，在中國臺灣地區(qū)銷售額高達14.85 億美元，同比增長34.5%，占比為25%。由于中國大陸半導體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，2016財年，中國大陸成為Lam半導體設備銷售的第二大市場。

東京電子

東京電子是日本一流領先的半導體設備提供商，主要從事半導體設備和平板顯示器設備制造。 英文簡寫為 TEL，全稱為 Tokyo Electron Limited。 1963 年在日本東京成立，公司名為東京電子研究所。 1968 年東京電子與 Thermco Products Corp 合作開始生產(chǎn)半導體設備。 1978 年公司正式改名為東京電子有限公司。

1983年，東京電子與美國公司拉姆研究合作，引進當時一流的美國技術，在日本本土開始生產(chǎn)刻蝕機。公司在 2018 財年營業(yè)收入增長 37.96%，凈利潤增長 73.09%。公司十分注重研發(fā)投入， 2018 財年的計劃研發(fā)費用約 1200 億日元（約合 80 億人民幣），設備投資 510 億日元（約合 30 億人民幣），

東京電子業(yè)務分為兩大板塊：工業(yè)機械制造和電子計算機組件，其中工業(yè)機械設備制造又細分為半導體制造和平板顯示器以及光伏設備制造。根據(jù)公司年報，從 2015財年開始，半導體制造已經(jīng)成為公司發(fā)展核心業(yè)務，占公司總營收90%以上。

2015年，為了集中發(fā)展半導體和平板顯示器業(yè)務，該公司減持電子計算機組件業(yè)務子公司股權至低于50%。平板顯示器及光伏設備制造也呈現(xiàn)遞減趨勢。

ASML

ASML總部在荷蘭，生產(chǎn)前后道設備，包括光刻機、集束型設備、外延反應器、垂直擴散爐、PECVD 反應器、原子層沉積設備、等離子體增強原子層沉積（PEALD）設備等。

目前，ASML占據(jù)了光刻機市場80%份額，壟斷了高端光刻機市場。全球只有ASML能夠生產(chǎn)EUV（極紫外光刻機）。Intel、臺積電、三星用來加工14/16nm芯片的光刻機都來自ASML，格芯、聯(lián)電以及中芯國際等晶圓廠的光刻機主要也是來自ASML。

例如，ASML新的EUV光刻機NXE 3400B能支持 7nm和5 nm芯片的批量生產(chǎn)，使用13.5nm EUV光源，光學系統(tǒng)的數(shù)值孔徑（NA）為0.33，分辨率為13nm，而尼康最新的ArF Immersion NSR-S631E浸入式光刻機落后EUV極紫外光刻機整整一代，使用139nm波長的ArF準分子激光，NA為1.35，分辨率小于等于38nm。

從售價來看，ASML的EUV NXE 3400B和3350B單價超過1億美元，ArF Immersion售價大約在7000萬美元左右，而尼康光刻機的單價只有ASML光刻機價格的三分之一。

KLA-Tencor

KLA-Tencor（科磊）于1997年由KLA儀器公司和Tencor儀器公司合并創(chuàng)立， 總部位于美國，該公司主要為半導體、數(shù)據(jù)存儲、LED及其他相關納米電子產(chǎn)業(yè)提供前道工藝控制和良率管理的解決方案。

科磊自成立起便深耕于半導體前道檢測設備行業(yè)， 目前其產(chǎn)品種類已經(jīng)覆蓋加工工藝環(huán)節(jié)的各類前道光學、電子束量檢測設備。 憑借其檢測產(chǎn)品高效、精確的性能特點，科磊以52%的市場份額在前端檢測設備行業(yè)內(nèi)具有絕對的龍頭地位。

在全球晶圓處理設備供應商中，KLA-Tencor排名第5，市占率6%左右，其中，在半導體光學檢測領域，KLA-Tencor全球市占居冠。

科磊一直將研發(fā)投入占比維持在 15%以上的水平，通過高額的研發(fā)費用支出維持創(chuàng)新能力。 2017年，該公司研發(fā)支出為 5.27 億美元，同比增長9.56%，研發(fā)支出占收入比為15.14%。

迪恩士

迪恩士（SCREEN）總部位于日本。成立于1868年，于1975年開發(fā)出晶圓刻蝕機，正式開啟半導體設備制造之路。在隨后的40多年里，迪恩士專注于半導體制造設備，尤其是清洗設備的研發(fā)與推廣，開發(fā)出了適應于多種環(huán)境的各類清洗設備，并在半導體清洗的三個主要領域均獲得第一的市場占有率。

迪恩士有4個主要的業(yè)務方向，半導體制造設備、圖像情報處理機器、 液晶制造設備、印刷電路板設備。半導體制造設備包括清潔、涂布和退火設備，半導體制造設備是該公司收入的主要部分，2017年占總收入的66.7%。從2016年財年來看，半導體制造設備中，清洗設備收入占該業(yè)務收入的90%。

迪恩士不僅在半導體清洗設備，也在圖像情報處理機器和液晶制造設備行業(yè)擁有龍頭地位。 在圖像情報處理機器領域，該公司的脫機直接印版（CTP技術）設備市場占有率為31%，為全球第一位。而在液晶制造設備領域， 液晶涂布機的市場占有率為71%，也為全球第一。

SEMES

SEMES成立于1993年，是半導體和FPD兩個事業(yè)為主的綜合設備廠商，于2004年建立TFT LCD設備生產(chǎn)為目的的第三工廠。Semes是韓國最大的預處理半導體設備與顯示器制造設備生產(chǎn)商，可稱其為韓國半導體設備廠第一大廠，主要生產(chǎn)清洗、光刻和封裝設備。

日立高新

日立高新（Hitachi-High Technologies）成立于2001年，由Hitachi Ltd. Instruments Group和Semiconductor Manufacturing Equipments Group與Nissei Sangyo Co.，Ltd。（一家專注于電子產(chǎn)品的公司）合并而成。

日立高新生產(chǎn)的設備包括：半導體制造設備，如芯片貼片機和蝕刻和檢測系統(tǒng); 分析和臨床儀器，如電子顯微鏡和DNA測序儀; 平板顯示器（FPD），液晶顯示器（LCD）和硬盤的制造設備; 計量和檢查設備。該公司還銷售鋼鐵，塑料，硅芯片，精細化學品，光學元件以及汽車相關設備和材料。日立高科技在日本的銷售額占42％。日立擁有該公司近52％的股份。

在半導體設備方面，日立高新主要生產(chǎn)沉積、刻蝕、檢測設備，以及封裝貼片設備等。

日立國際電氣

日立國際電氣（hitachi kokusai）是日立制作所(Hitachi)集團內(nèi)，專責廣播設備與映像設備制造營銷的子公司，總公司位于日本東京，2014會計年度(2014/4~2015/3)營收1,457億日圓(約11.84億美元)，連結營收達1,836億日圓，職員人數(shù)在2015年3月底總計4,943名。

現(xiàn)在的日立國際電氣，是2000年10月由3家公司合并而成：國際電氣，從事無線通信設備與半導體制作，1949年設立；日立電子：從事無線通信設備與映像設備制作，1948年設立；八木天線(Yagi Antenna)，由發(fā)明八木天線的八木秀次博士于1952年成立，擁有天線專利。

公司合并后以原本的國際電氣為主，改名日立國際電氣，其他各廠與海內(nèi)外分公司，則逐一改組為日立國際電氣相關分公司。

該公司生產(chǎn)的半導體設備主要是熱處理設備。

Daifuku

Daifuku（大福）（集團）公司在日本大阪、東京設立總部、核心生產(chǎn)基地設在滋賀縣，還在世界23個國家和地區(qū)設立了生產(chǎn)和銷售網(wǎng)點。

大福的潔凈室存儲、搬運系統(tǒng)被廣泛應用于半導體、液晶等平板顯示器制造行業(yè)，在許多世界著名企業(yè)均有銷售業(yè)績。大福運用高端技術實現(xiàn)了潔凈室內(nèi)的無塵搬運、降低了搬運過程中產(chǎn)生的振動，因此獲得了廣大客戶的高度信賴。近年來，該公司利用氮氣凈化、空氣懸浮傳送等獨有的搬運技術，滿足半導體的細微化及液晶顯示器的精細化加工要求。

ASM International

ASMI（ASM International）總部位于荷蘭阿爾默勒，在阿姆斯特丹泛歐證券交易所上市。其子公司和參股公司設計和生產(chǎn)用于制造半導體器件的設備和材料。ASMI子公司和參股公司為晶圓加工（前端部分）提供生產(chǎn)解決方案，通過美國、歐洲、日本和亞洲的設施提供組裝和封裝和表面黏著技術（后端部分）。

ASMI主要生產(chǎn)光刻，沉積，離子注入和單晶圓外延設備，擅長是原子層沉積（ALD）和等離子體增強原子層沉積（PEALD）產(chǎn)品。

ASM是ASM International NV集團的一部分，該集團還包括ASM Pacific Technology（ASMPT）。ASMP擁有大約2％的大部分所有權，是晶圓組裝和封裝以及表面貼裝技術的半導體工藝設備的領先供應商。

ASMP于1975年在香港成立，1989年在香港上市，目前總部在新加坡，此前53.1％的股份由ASM International N. V. 所持有。ASMP生產(chǎn)芯片組裝和包裝機械，稱為后端設備，是全球首個為半導體封裝及電子產(chǎn)品生產(chǎn)的所有工藝步驟提供技術和解決方案的設備制造商，包括從半導體封裝材料和后段（芯片集成、焊接、封裝）到SMT 工藝。全球并無其他設備供應商擁有類似的全面產(chǎn)品組合及對裝嵌及SMT程序的廣泛知識及經(jīng)驗。

尼康

尼康成立于1917年，最早通過相機和光學技術發(fā)家，1980年開始半導體光刻設備研究，1986年推出第一款FPD光刻設備，如今業(yè)務線覆蓋范圍廣泛。尼康既是半導體和面板光刻設備制造商，同時還生產(chǎn)護目鏡，眼科檢查設備，雙筒望遠鏡，顯微鏡，勘測器材等健康醫(yī)療和工業(yè)度量設備。

在FPD光刻方面，尼康則可發(fā)揮其比較優(yōu)勢，尼康的機器范圍廣泛，從采用獨特的多鏡頭投影光學系統(tǒng)處理大型面板到制造智能設備中的中小型面板，提供多樣化的機器。

尼康雖然在芯片光刻技術上遠不及ASML，目前的產(chǎn)品還停留在ArF和KrF光源，且售價也遠低于ASML，和EUV更加難以相提并論。但目前，其盈利性也很大程度上依賴光刻設備，尤其是芯片光刻設備，2017年光刻設備營收占比高達33%。

2018-10-17  來源：中國國際招標網(wǎng) 飛翔的小果粒   

文章關鍵詞： 韋爾半導體股份  香港華清電子(集團)有限公司  全球半導體設備供應商  

免責聲明：本文僅代表作者個人觀點，與摘抄信息網(wǎng)無關。其原創(chuàng)性以及文中陳述文字和內(nèi)容未經(jīng)本站證實，對本文以及其中全部或者 部分內(nèi)容、文字的真實性、完整性、及時性本站不作任何保證或承諾，請讀者僅作參考，并請自行核實相關內(nèi)容。

版權聲明：本文系網(wǎng)絡轉載，已標明出處。如需轉載，請點擊原文來源出處，聯(lián)系作者進行轉載。